AIXTRON startet Bau des neuen Innovationszentrums (FOTO)Herzogenrath - Der führende Anbieter von Depositionsanlagen für dieHalbleiterindustrie investiert am Standort Herzogenrath rund 100 Millionen Euro.Damit schafft AIXTRON eine wichtige Grundlage für das weitere erfolgreicheWachstum.AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) hat offiziell mit dem Bau des neuenInnovationszentrums am Standort Herzogenrath begonnen.

AIXTRON SE / AIXTRON startet Bau des neuen Innovationszentrums (FOTO)

AIXTRON startet Bau des neuen Innovationszentrums (FOTO)Herzogenrath (ots) - Der führende Anbieter von Depositionsanlagen für dieHalbleiterindustrie investiert am Standort Herzogenrath rund 100 Millionen Euro.Damit schafft AIXTRON eine wichtige Grundlage für das weitere erfolgreicheWachstum.

AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) hat offiziell mit dem Bau des neuenInnovationszentrums am Standort Herzogenrath begonnen. Der Spezialanlagenbauerinvestiert dafür rund 100 Millionen Euro - und zwar in 1000m2 Reinraumfläche mitzusätzlichen Flächen für die dazugehörige Messtechnik. Entstehen wird dabei eineForschungseinrichtung mit den neuesten verfügbaren Technologien der Branche.Erste Anlagen sollen bereits in der zweiten Jahreshälfte 2024 in das neueGebäude einziehen. Die offizielle Übergabe ist für Anfang 2025 geplant.

Feierlich begangen wurde dieser Meilenstein in der erfolgreichen Geschichte desUnternehmens beim symbolischen Spatenstich, dem Vertreter aus Politik,Wissenschaft und Forschung sowie wichtige Lieferanten des Unternehmensbeiwohnten. Den Rahmen für diese entscheidende Zäsur markierte ein Festaktanlässlich des 40-jährigen Bestehens der Firma AIXTRON. Erstmals gegründet imDezember 1983 als Spin-off aus der RWTH Aachen steht AIXTRON von jeher anvorderster Front, wenn es um Pioniergeist und die Entwicklung neuer,wegweisender Halbleiter-Technologien geht. Das neue Innovationszentrum setztdiesen Weg fort und bildet eine wichtige Grundlage für das weitere erfolgreicheWachstum der Firma.

"Gerade haben wir unser Portfolio mit der G10-Produktfamilie vollständigerneuert. Die Nachfrage unserer Kunden danach ist sehr groß, und wir sind mittenim Volumensramp: Jetzt beginnt die Arbeit an der nächsten Generation innovativertechnischer Lösungen, um die Elektrifizierung der Welt mit den MegatrendsDigitalisierung, Elektromobilität und Energieeffizienz weiter erfolgreichvoranzutreiben. Das neue Innovationszentrum liefert uns dafür entscheidendeKapazitäten", sagt Dr. Felix Grawert, Vorstandsvorsitzender der AIXTRON SE.

Die Reinraumfläche des Innovationszentrum wird der Klasse ISO 6 entsprechen,erweiterbar auf bis zu ISO 4. Der neue Komplex, in der Branche als "Fab"bezeichnet, ist eine der dichtesten und komplexesten Halbleiter-Fabs der Welt:Die Fläche besitzt zwei Unterebenen - eine sogenannte Sub-Ebene, in der u.a. diePumpenfilterkabinette der Anlagen untergebracht werden, und die Facility Ebenefür die unterstützenden Prozesse und Systeme der gesamten Infrastruktur.

Durch diese Art der Raumnutzung steigt die Reinraumeffizienz um einen Faktor vonbis zu drei verglichen mit den bisher genutzten Reinraumflächen.

Über AIXTRON

Die AIXTRON SE (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) ist ein führender Anbieter vonDepositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Unternehmen wurde 1983gegründet und hat seinen Sitz in Herzogenrath (Städteregion Aachen) sowieNiederlassungen und Repräsentanzen in Asien, den USA und in Europa. DieTechnologielösungen der Gesellschaft werden weltweit von einem breitenKundenkreis zur Herstellung von leistungsstarken Bauelementen für elektronischeund optoelektronische Anwendungen auf Basis von Verbindungshalbleiter- oderorganischen Halbleitermaterialien genutzt. Diese Bauelemente werden in einerVielzahl innovativer Anwendungen, Technologien und Industrien eingesetzt. Dazugehören beispielsweise Laser-, LED-, und Displaytechnologien, Datenübertragung,SiC- und GaN-Energiemanagement und -umwandlung, Kommunikation, Signal- undLichttechnik sowie viele weitere anspruchsvolle High-Tech-Anwendungen.

Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT(R), AIXTRON(R), APEVA(R), Atomic LevelSolutionS(R), Close Coupled Showerhead(R), CRIUS(R), EXP(R), EPISON(R), Gas FoilRotation(R), Optacap(TM), OVPD(R), Planetary Reactor(R), PVPD(R), STExS(R),TriJet(R)

Weitere Informationen über AIXTRON (FWB: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) sind imInternet unter http://www.aixtron.com verfügbar.

Zukunftsgerichtete Aussagen

Dieses Dokument kann zukunftsgerichtete Aussagen über das Geschäft, die Finanz-und Ertragslage und Gewinnprognosen von AIXTRON enthalten. Begriffe wie"können", "werden", "erwarten", "rechnen mit", "erwägen", "beabsichtigen","planen", "glauben", "fortdauern" und "schätzen", Abwandlungen solcher Begriffeoder ähnliche Ausdrücke kennzeichnen diese zukunftsgerichteten Aussagen.Solchezukunftsgerichtete Aussagen geben die gegenwärtigen Beurteilungen,Erwartungen und Annahmen des AIXTRON Managements, von denen zahlreiche außerhalbdes AIXTRON Einflussbereiches liegen, wieder und gelten vorbehaltlichbestehender Risiken und Unsicherheiten. Sie sollten kein unangemessenesVertrauen in die zukunftsgerichteten Aussagen setzen. Sollten sich Risiken oderUngewissheiten realisieren oder sollten zugrunde liegende Erwartungen zukünftignicht eintreten beziehungsweise es sich herausstellen, dass Annahmen nichtkorrekt waren, so können die tatsächlichen Ergebnisse, Leistungen und Erfolgevon AIXTRON wesentlich von denjenigen Ergebnissen abweichen, die ausdrücklichoder implizit in der zukunftsgerichteten Aussage genannt worden sind. Dies kanndurch Faktoren verursacht werden, wie zum Beispiel die tatsächlich von AIXTRONerhaltenen Kundenaufträge, den Umfang der Marktnachfrage nachDepositionstechnologie, den Zeitpunkt der endgültigen Abnahme von Erzeugnissendurch die Kunden, das Finanzmarktklima und die Finanzierungsmöglichkeiten vonAIXTRON, die allgemeinen Marktbedingungen für Depositionsanlagen, und dasmakroökonomische Umfeld, Stornierungen, Änderungen oder Verzögerungen beiProduktlieferungen, Beschränkungen der Produktionskapazität, lange Verkaufs- undQualifizierungszyklen, Schwierigkeiten im Produktionsprozess, die allgemeineEntwicklung der Halbleiterindustrie, eine Verschärfung des Wettbewerbs,Wechselkursschwankungen, die Verfügbarkeit öffentlicher Mittel, Zinsschwankungenbzw. Änderung verfügbarer Zinskonditionen, Verzögerungen bei der Entwicklung undVermarktung neuer Produkte, eine Verschlechterung der allgemeinenWirtschaftslage sowie durch alle anderen Faktoren, die AIXTRON in öffentlichenBerichten und Meldungen, insbesondere im Abschnitt Risiken des Jahresberichts,beschrieben hat. In dieser Mitteilung enthaltene zukunftsgerichtete Aussagenberuhen auf den gegenwärtigen Einschätzungen und Prognosen des Vorstandsbasierend auf den zum Zeitpunkt dieser Mitteilung verfügbaren Informationen.AIXTRON übernimmt keine Verpflichtung zur Aktualisierung oder Überprüfungzukunftsgerichteter Aussagen wegen neuer Informationen, künftiger Ereignisseoder aus sonstigen Gründen, soweit keine ausdrückliche rechtliche Verpflichtungbesteht.

Dieses Dokument liegt ebenfalls in englischer Übersetzung vor, bei Abweichungengeht die deutsche maßgebliche Fassung des Dokuments der englischen Übersetzungvor.

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