TWINSCAN NXE:3600D von ASML - 13.5 nm und 0.33 NA
Veröffentlicht am: 27.08.2026 um 16:00 Uhr | Redaktionelle Verantwortung: Rafael Müller, Chefredakteur AD HOC NEWS
TWINSCAN NXE:3600D von ASML arbeitet mit 13.5 nm EUV-Licht, einer numerischen Apertur von 0.33 und einer 26 mm x 33 mm großen Belichtungsfläche. Das System unterstützt laut Hersteller die Volumenfertigung von 5- und 3-nm-Logic sowie führende DRAM-Linien.
EUV mit 30 mJ/cm2
Die NXE:3600D ist auf 300-mm-Wafer ausgelegt und nutzt reflektierende Projektionsoptik. ASML nennt für das System eine Produktivitätssteigerung von 15 % bis 20 % gegenüber dem Vorgänger NXE:3400C bei einer Dosis von 30 mJ/cm2.
Die Kombination aus 13.5 nm EUV-Licht, 0.33 NA und der kompakten Feldgröße von 26 mm x 33 mm ordnet die Maschine klar in die Spitze der aktuellen Scanner ein. Für die Fertigung sehr feiner Strukturen ist vor allem die Verbindung aus Auflösung und Overlay entscheidend.
Der Vorgänger im Blick
Gegenüber der TWINSCAN NXE:3400C rückt bei der NXE:3600D vor allem die höhere Produktivität nach vorn. ASML beschreibt den Zuwachs mit 15 % bis 20 %, während die technische Basis mit 13.5 nm EUV und 0.33 NA auf demselben Grundprinzip aufbaut.
Im Vergleich zur DUV-Reihe, etwa der TWINSCAN NXT:2050i mit 1.35 NA und 295 Wafern pro Stunde, arbeitet die NXE-Serie mit einer anderen Lichtquelle und einem anderen Einsatzzweck. Der Vergleich zeigt vor allem, wie stark sich EUV- und DUV-Systeme in Architektur und Zielstruktur unterscheiden.
TWINSCAN NXE:3600D und technische Daten
Die offizielle Produktseite nennt die zentrale Technik und den vorgesehenen Fertigungsbereich des Systems.
Einordnung für die Fertigung
Als EUV-System ist die NXE:3600D für sehr präzise Prozessschritte gebaut, nicht für breite Allzweckproduktion. Der Wert liegt in der Kombination aus 300-mm-Waferhandling, 0.33 NA und der auf 13.5 nm abgestimmten Lichtquelle.
Das Gerät richtet sich damit an Hersteller, die 5- und 3-nm-Logik sowie führende DRAM-Prozesse abdecken. Wer DUV-Scanner sucht, landet bei einer anderen Klasse, etwa bei der NXT-Reihe mit ArF-Immersion und deutlich höherer Wafer-pro-Stunde-Angabe.
Fakten auf einen Blick
Produkt: TWINSCAN NXE:3600D.
Hersteller: ASML Holding N.V..
Kategorie: EUV-Lithographiesystem.
Belichtung: 13.5 nm.
Numerische Apertur: 0.33.
Belichtungsfeld: 26 mm x 33 mm.
Waferformat: 300 mm.
Produktivität: 15 % bis 20 % über NXE:3400C.
Dosis: 30 mJ/cm2.
Social
YouTube, X, TikTok und Instagram führen zu Trefferlisten rund um TWINSCAN NXE:3600D.
