ASML, Bélgica

ASML: La instalación en Bélgica marca el camino hacia la nueva generación de chips

20.03.2026 - 06:22:22 | boerse-global.de

El centro belga imec pone en marcha el avanzado litógrafo ASML High-NA EUV, un hito europeo de 2.500M€ que acerca la fabricación comercial de chips más rápidos y eficientes para IA.

ASML: La instalación en Bélgica marca el camino hacia la nueva generación de chips - Foto: über boerse-global.de
ASML: La instalación en Bélgica marca el camino hacia la nueva generación de chips - Foto: über boerse-global.de

El centro de investigación belga imec ha dado un paso crucial para la industria global de semiconductores. Acaba de poner en marcha en sus instalaciones de Lovaina el sistema de litografía más avanzado del planeta, el ASML EXE:5200. Con menos de una docena de estas unidades existentes en el mundo, este hito acerca la tecnología High-NA EUV a su uso comercial definitivo.

Un proyecto europeo con financiación multimillonaria

Esta máquina es el componente central de la línea piloto NanoIC de imec, una iniciativa valorada en 2.500 millones de euros que se enmarca dentro del Chips Act de la Unión Europea. La financiación proviene de tres fuentes principales: la propia UE contribuye con 700 millones, los gobiernos nacionales y regionales aportan otros 700 millones, y el resto corre a cargo de un consorcio industrial en el que participa ASML.

Desde una perspectiva técnica, la clave reside en la mayor apertura numérica (High-NA). Este avance permite fabricar estructuras de chip hasta un 66% más pequeñas que las logradas con los sistemas EUV anteriores. El resultado son procesadores significativamente más rápidos y con un consumo energético optimizado, características esenciales para la inteligencia artificial y la computación de alto rendimiento por debajo de los 2 nanómetros.

Los planes de imec pasan por completar la calificación total del sistema EXE:5200 para el último trimestre de 2026.

El calendario de los grandes fabricantes se acelera

Mientras tanto, los principales clientes de ASML ya se están preparando. Intel finalizó las pruebas de aceptación de su sistema a finales de 2025. Por su parte, SK Hynix instaló una unidad en su fábrica de DRAM en septiembre de ese mismo año. Samsung también recibió su primer escáner High-NA a finales de 2025 y espera una segunda unidad durante el primer semestre de 2026.

El director ejecutivo de ASML, Christophe Fouquet, anticipa que la fabricación a gran volumen comenzará entre 2027 y 2028. La empresa mantiene una colaboración estrecha con sus clientes para garantizar la estabilidad operativa de estas complejas máquinas.

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Un contexto de demanda sólida y recompras accionariales

Este avance tecnológico se produce en un momento de fortaleza para ASML. En el cuarto trimestre de 2025, sus pedidos netos alcanzaron los 13.200 millones de euros. De esta cifra, 7.400 millones correspondieron únicamente a sistemas EUV. Para el ejercicio completo de 2026, la compañía proyecta unos ingresos que oscilarán entre los 34.000 y los 39.000 millones de euros, con un margen bruto previsto del 51% al 53%.

En paralelo, ASML continúa con su programa de recompra de acciones, autorizado por un importe de hasta 12.000 millones de euros para el periodo 2026-2028. Tan solo en la semana del 9 al 13 de marzo de 2026, readquirió aproximadamente 107.000 títulos propios por un valor total cercano a los 125 millones de euros. La cotización de la acción se mantiene cerca de su media móvil de 50 días y acumula una revalorización de alrededor del 19% desde principios de año.

La puesta en marcha en Lovaina confirma que el despliegue mundial de la tecnología High-NA EUV avanza según lo previsto. ASML conserva, de momento, su posición de monopolio como único fabricante capaz de producir estos sistemas fundamentales para el futuro de la electrónica.

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